是的，林本堅也打算在新芯光刻機130nm製程工藝的光刻機上採取浸沒式的技術路線。
周新聽完後倒也沒有特別驚訝，作為光學領域的頂級牛人，林本堅能想到濕法並不奇怪，周新問起另一個問題：「為什麼要爭取我的同意？
之前我們在溝通要做光刻機這件事的時候，不就說好了，我不會幹預新芯光刻機的經營，經營全權交給你嗎？」
林本堅點頭：「之前我們確實是這樣溝通的，但是現在情況又不一樣，要走濕法光刻機的路線，是在和全世界為敵。
我們需要說服光刻機各種元器件的供應商，尤其是蔡司，和我們配合，我們做過濕法光刻機的預研究工作。
和乾式光刻機相比，我們需要改變鏡頭組，之前的透鏡組合可能無法滿足我們的需要。
中間還涉及大量的技術性工作，比如說水放進去之後空氣可能會產生氣泡，水必須非常均勻，但是實際上會有光照到水上，光照到水上會產生溫差，溫差就會導致水不均勻。水不均勻會進一步影響到成像。
中間有大量技術性工作要做，新芯光刻機的體量太小，過去的時間裏業內在乾式光刻機領域投入了超過十億美元的研發費用，我們現在相當於完全另起爐灶。
濕法光刻機是否真的能達到我們預期的效果，我不確定。
這是賭上新芯光刻機的命運。」林本堅眼神中展露出從未有過的認真。
這麼說，這條技術路線賭贏了，手握大量技術專利，即便再通過瓦森納協定卡脖子，一來可以出售專利給其他光刻機公司，然後繼續在這一技術路線上繼續研發，積累技術優勢，構建自己的專利牆。
二來其他公司到時候做轉向的時候，asml、佳能、尼康處於同一起跑線，asml不會那麼快形成壟斷，新芯光刻機能買到一些技術。
周新聽完後想起原時空中林本堅在台積電工作的時候堅持要走浸沒式光刻機路線，也沒有聽說當時林本堅經歷過如此激烈的內心鬥爭啊。
周新再一思考，覺得是因為之前屬於是幫台積電打工，自己無論乾的怎麼樣拿的都差不多，自然會有學術上的堅持，賭性會更強，輸了自己的損失有限。
現在新芯光刻機也有他的一份，技術路線一旦選錯，失去的時間可再也回不來，損失是自己的。
周新在思考，林本堅見對方不說話，繼續說：「其實我一直很猶豫，因為乾式光刻機大家都在走這條路，業內的同行業公司他們都是研發乾式光刻機。
沒有誰考慮過濕法光刻機，一來是因為濕法光刻機是一個很冷門的技術路線，麻省理工學院林肯實驗室的斯威特克斯和羅斯柴爾德兩位研究員做過類似的研究，他們嘗試過各種液體，都不太合適。」
周新打斷道：「要用水，水的折射率是最合適的，只有水可以。」
林本堅鼓掌：「不愧是newman，在一切事物上都是如此敏銳，沒錯我們也發現水才是最合適的。
因為水是半導體生產中要用到的大量液體，不存在接受度的問題。
而且我們在做預研究的時候測過水的折射率，1.46，這個折射率很合適，現在193納米的波長通過水折射之後可以變成132納米，直接跳過了157納米，避開了這個困難，這真是上天的奇妙安排。」
為什麼說157納米是困難的，因為波長在193納米的時候，光刻機鏡頭的孔徑已經做到了0.93，這一技術的極限就是90納米製程，要想更進一步，光源必須要更短的波長。
而業內找到的波長為157納米的光，存在很多問題，穿透率低，只有很少可用的介質，比如說單結晶的二氟化鈣，這種材料去做鏡頭的問題在於很難製造20-30公分大小的完美結晶。
還有像空氣中的氧氣會吸收157納米的光，光經過的整個路徑必須只有氮氣，造成很多不便，會增加製造的成本，而且一旦出現意外漏出太多氮氣會有致命危險。
157納米的光存在非常多非常多要被克服的問題，林本堅則發現通過濕法可以不用換光源，作為基督徒的他愈發覺得這是上天的安排。
第二百八十四章 技術路線
